David H. Wang

David H. Wang ayuda a garantizar que la industria de semiconductores vital a nivel mundial opere de manera limpia y segura.

Los semiconductores son esenciales para la vida cotidiana, desde nuestros teléfonos inteligentes y autos hasta dispositivos médicos avanzados y tecnología de energía limpia. Pero limpiarlos utiliza reactivos químicos peligrosos como el ácido sulfúrico concentrado. Gracias a las tecnologías creadas por David H. Wang, el uso de estos químicos se puede reducir entre 50 % y 80 %, al tiempo que se reducen los costos de producción, el consumo de energía y las emisiones.

Como presidente y fundador de ACM Research Inc., David ha sido pionero en los procesos de limpieza para eliminar partículas y contaminación. Es el inventor de la tecnología de pulido de cobre sin estrés, y posee más de 100 patentes en equipos semiconductores y tecnología de procesos.

Las categorías de productos de equipos diversificados de ACM incluyen limpieza de semiconductores, galvanoplastia, horno vertical, recubridor y revelador, depósito de vapor químico mejorado con plasma y empaque. Las ofertas de la compañía también aumentan los rendimientos de fabricación de circuitos integrados y mejoran la eficiencia de la producción, gracias a un enfoque holístico. ACM integra funciones de investigación y desarrollo, diseño, fabricación y ventas, cubriendo las etapas de fabricación front-end y back-end en los procesos de fabricación de chips.

Con 448 patentes autorizadas en todo el mundo y centros de I+D en Shanghai y Corea del Sur, ACM se ha posicionado como uno de los principales innovadores en una industria vital a nivel mundial. Bajo la dirección de David, la compañía tiene la visión de ser la compañía líder en equipos semiconductores con la gama más completa de productos de limpieza a nivel mundial.